Ion Beam Cones

Ang SIKAIDA Ion Beam Cones ay mga pangunahing bahagi ng ion beam implantation at transmission system. Ginawa mula sa high-purity advanced na ceramic na materyales at naproseso sa pamamagitan ng precision injection molding at high-temperature sintering, nagtatampok ang mga ito ng napakababang impurity content, mataas na temperature resistance, at stable dimensional accuracy. Maaari silang i-machine sa mga kumplikadong geometries upang matugunan ang napakataas na mga kinakailangan sa pagpapaubaya, na ginagawang angkop ang mga ito para sa mga proseso ng pagtatanim ng semiconductor ion na may mataas na pagganap.

Bilang isang propesyonal na manufacturer sa China, ang SIKAIDA ay nagbibigay ng maaasahan, cost-effective, at nako-customize na mga ion beam cone sa mga customer sa buong mundo sa semiconductor, flat panel display, optika, microelectromechanical system (MEMS), at solar energy field. Ang SIKAIDA ay isang pinagkakatiwalaang pangmatagalang supplier at dedikadong manufacturing plant para sa mga high-end na bahagi ng proseso ng ion beam.

Mga Materyales at Paggawa

1. Mga materyales

Gumagamit ang Ion Beam Cones ng mga materyales kabilang ang alumina (Al₂O₃) na may purity na ≥99.9%, silicon nitride (Si₃N₄) na may purity na ≥99.5%, zirconium oxide (ZrO₂) na may purity na ≥99.8%, at fused silica (9.99%). Ang lahat ng mga materyales ay nakakatugon sa mahigpit na mga pamantayan ng kadalisayan ng industriya ng semiconductor at angkop para sa mga kinakailangan sa pagganap ng iba't ibang mga aplikasyon.

2. Proseso ng Paggawa

Ang proseso ng pagmamanupaktura ay sumasaklaw sa precision injection molding, high-temperature sintering, CNC precision machining, mirror-level polishing, at awtomatikong paglilinis at pagsubok. Ang bawat proseso ay mahigpit na kinokontrol para sa katumpakan at kalidad upang matiyak na ang huling produkto ay nakakatugon sa mga pamantayan ng industriya at mga kinakailangan ng customer.

Mga Pangunahing Parameter ng Produkto

1. Sukat ng Dimensyon

Ang Ion Beam Cones ay may mga tolerance na kinokontrol sa loob ng ±0.05mm, pagkamagaspang sa ibabaw Ra≤0.4μm, katumpakan ng taper ng panloob na butas ±0.02mm, coaxiality ≤0.03mm, at perpendicularity ≤0.02mm. Ang napakataas na katumpakan ng dimensyon na ito ay epektibong tinitiyak ang katumpakan ng paghahatid ng ion beam.

2. Paggamot sa Ibabaw

Kasama sa mga surface treatment ang mechanical polishing para sa mirror finish, UV-cured coatings para mapahusay ang surface properties, scratch-resistant coating para mapahusay ang wear resistance, at acid pickling at passivation para maalis ang mga impurities at mapabuti ang stability. Maaaring piliin ang naaangkop na mga paraan ng paggamot batay sa mga kinakailangan sa aplikasyon.

3. Mga Tagapagpahiwatig ng Pagganap

Gumagana ang Ion Beam Cones sa loob ng hanay ng temperatura na -196℃ hanggang +800℃, na tinitiyak ang matatag na operasyon sa mga kapaligirang may matinding temperatura. Ang mga ito ay nagtataglay ng volume resistivity ≥10¹⁴Ω·cm at isang surface resistivity ≥10¹²Ω, na nagpapakita ng mahusay na mga katangian ng pagkakabukod. Nagtataglay din sila ng namumukod-tanging paglaban sa plasma at kemikal na kaagnasan, na nagpapahintulot sa kanila na umangkop sa mga kumplikadong kapaligiran sa proseso.

Mga Pangunahing Kalamangan

1. Napakataas na Kadalisayan: Ang kadalisayan ng hilaw na materyal ay lumampas sa 99.9%, pinapaliit ang kontaminasyon ng mga wafer ng semiconductor, tinitiyak ang matatag na pagganap ng elektrikal ng mga aparato, at natutugunan ang mahigpit na mga kinakailangan sa kadalisayan ng paggawa ng semiconductor.

2. Napakataas na Geometric Accuracy: Tinitiyak ang pare-parehong dimensyon ng produkto sa panahon ng mass production, na may taper error na kinokontrol sa loob ng ±0.05mm at roundness error ≤0.02mm, eksaktong tumutugma sa mga kinakailangan sa pag-install at paggamit ng mga ion beam transmission system.

3. Mirror-like Surface Quality: Surface roughness Ra≤0.4μm, epektibong binabawasan ang ion beam scattering, pagpapabuti ng pagkakapareho ng transmission ng ion beam, at higit pang pag-optimize sa katumpakan ng implantation ng mga semiconductor device.

4. Malawak na Saklaw ng Temperatura Stability: Gumagana nang matatag sa malalim na cryogenic hanggang sa mataas na temperatura na mga kapaligiran. Ang materyal ay may napakababang koepisyent ng thermal expansion, pinapanatili ang mahusay na dimensional na katatagan kahit na may mga pagbabago sa temperatura, na pumipigil sa mga epekto sa pagganap mula sa mga pagbabago sa temperatura.

5. Napakahusay na Insulation at Corrosion Resistance: Epektibong pinipigilan ang akumulasyon ng singil sa panahon ng paghahatid ng ion beam at lumalaban sa mga malakas na acid, malakas na alkalis, at iba't ibang mga kaagnasan ng plasma, na tinitiyak ang pangmatagalang matatag na operasyon sa mga kumplikadong kapaligiran ng proseso.

Customized na Serbisyo

Maaaring i-customize ang mga modelo at laki ng produkto ayon sa iba't ibang mga kinakailangan sa proseso. Kasama sa mga sinusuportahang format ng pagguhit ang STP, STEP, IGS, XT, DXF, DWG, PDF, at mga pisikal na sample. Tungkol sa oras ng paghahatid, ang sample na paghahatid ay 4-7 na linggo, at ang batch na paghahatid ng produkto ay 8-12 na linggo. Ang aming sistema ng kalidad ay sumusunod sa mga pamantayan ng ISO9001:2015, SGS RoHS, REACH, at SEMI, na komprehensibong tinitiyak ang kalidad ng produkto at kahusayan sa paghahatid.

Mga Lugar ng Application

Ang Ion Beam Cones ay malawakang ginagamit sa maraming larangan, kabilang ang mga ion implanter sa semiconductor manufacturing, processing equipment sa flat panel display, ion beam deposition (IBD) at ion beam etching (IBE) system sa optical device manufacturing, microelectromechanical systems (MEMS) manufacturing, ion doping equipment para sa solar cells, at ion implantation na mga device tulad ng power semiconsulator-BTISG. at mga power MOSFET.

Mga Madalas Itanong:

Q1: Anong mga materyales ang karaniwang ginagamit sa Ion Beam Cones?

A1: Pangunahing ginagamit namin ang mga advanced na ceramic na materyales tulad ng high-purity alumina (Al₂O₃), silicon nitride (Si₃N₄), at zirconium oxide (ZrO₂). Ang mga materyales na ito ay nagtataglay ng napakataas na kadalisayan, mahusay na paglaban sa mataas na temperatura, at matatag na mga katangian ng kuryente.

Q2: Maaari bang magbigay ang UET ng mga customized na detalye at mga surface treatment? 

A2: Oo. Maaaring i-customize ng UET ang laki, taper, uri ng materyal, at surface treatment ng mga cone ayon sa iyong mga kinakailangan sa proseso. Mayroon kaming malawak na karanasan sa pagmamanupaktura at maaaring matugunan ang mga partikular na kinakailangan sa aplikasyon ng mga customer.

Q3: Paano ginagarantiyahan ang katumpakan at kalidad ng Ion Beam Cones?

A3: Ginagamit namin ang ISO9001:2015 quality management system at nilagyan ng high-precision testing equipment, kabilang ang coordinate measuring machine, surface roughness tester, at X-ray fluorescence spectrometer, upang matiyak na ang bawat batch ng mga produkto ay nakakatugon sa mahigpit na pamantayan ng industriya.

Q4: Ano ang ikot ng paghahatid?

A4: Ang sample na ikot ng paghahatid ay 4-7 linggo, at ang batch na ikot ng paghahatid ng produkto ay 8-12 linggo. Ang partikular na cycle ay nakasalalay sa pagiging kumplikado ng produkto at dami ng order.